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HSQ 351 / HSQ 751

HSQ 351 und 751 sind zwei flammgeschmolzene Quarzglas-Varianten. HSQ 351 bietet eine außergewöhnliche Materialreinheit, die für viele Halbleiteranwendungen qualifiziert ist. Für noch anspruchsvollere Anwendungen bietet sich HSQ 751 mit seinem deutlich geringeren Gehalt an Aluminium-, Alkali- und Schwermetall- Ionen an. Das Flammschmelzverfahren ist der älteste Herstellungsprozess für Quarzglas, der von Heraeus im Jahre 1899 eingeführt wurde. Die Rohstoffe werden aus aufwändig aufbereitetem natürlichem Quarzsand gewonnen.
HSQ 351

Merkmale / Besonderheiten:

OH-Gehalt 175 ppm

Produkte und Anwendungen:

Diffusionsbarriere durch OH-Gruppen, z.B. in Diffusionsprozessen in der Chip-Produktion

HSQ 751

Merkmale / Besonderheiten:

OH-Gehalt 175 ppm, höhere Reinheit

Produkte und Anwendungen:

Diffusionsbarriere mit höchsten Reinheitsanforderungen

Chemische Reinheit – Typische Spurenelemente und OH - Gehalt in Quarzglas (ppm)
Elemente Al Ca Cl Cr Cu Fe K Li Mg Mn Na Ti Zr OH - Gehalt
HSQ 351* 15 0.6 n. s. <0.05 0.07 0.2 0.7 0.4 0.1 0.05. 0.8 1.1 1.1 175
HSQ 751* 8 0.5 n. s. <0.05 <0.06 0.2 <0.1 0.2 <0.05 0.05 <0.05 1.4 0.1 175
* Rohre dieser Qualität können durch eine besondere Oberflächenbehandlung stabilisiert werden. Die Stabilisierung wird durch eine ca. 20 mm dünne, gleichförmige Cristobalit-Schicht erreicht, die sich während des Einfahrens bei hohen Temperaturen auf der äußeren Rohroberfläche ausbildet.