Merkmale / Besonderheiten:
Quarzglas in Halbleiter-Qualität thermisch stabil bis 1160° (kurzzeitig 1300°C), geringe Wärmeleitfähigkeit von 1,38 - 2,68 W/mK, Alkalimetallgehalt: < 1,5 ppm, OH-Gehalt: < 30 ppm
Produkte und Anwendungen:
Halbleiterprozesse mit unterschiedlich hohen Reinheitsanforderungen zwischen Raumtemperatur und hohen Temperaturen: CVD-Rohre, Diffusions- öfen, Epitaxiekammern, Ätzanlagen; optische Anwendungen